Litografia e tecniche di fabbricazioni non convenzionali basate sull’utilizzo dell’effetto pyroelettrico

Litografia e tecniche di fabbricazioni non convenzionali basate sull’utilizzo dell’effetto pyroelettrico

Descrizione dell’attività di ricerca

La litografia Olografica è utilizzata per il patterning sub-micron periodico per la fabbricazione di strutture a domini invertiti in LiNbO3.
Oltre alle tecniche note di litografia interferometrica è stato sviluppato un nuovo metodo basato sull’impiego dell’effetto piroelettrico per generare instabilità in liquidi e film sottili. Tale tecnica consente di controllare, senza l’utilizzo di maschere e sorgenti laser, l’insorgere dell’instabilità in film sottili, attivando tramite un processo di self-assembling la formazione di array di strutture. Il range coperto dalla tecnologia basata sull’effetto pyro consente la fabbricazione di micro/macro strutture 3D anche di forma complessa. La manipolazione della materia soffice è in questo modo controllata attraverso l’azione elettroidrodinamica ed, una volta selezionata la geometria di interesse, le strutture sono curate e rese stabili utilizzando una sorgente esterna che può variare in funzione del tipo di materiale utilizzato. La tecnologia è stata validata ed applicata a materiali polimerici da bassa ad alta viscosità, con il vantaggio di progettare a priori le instabilità fluidodinamiche da indurre al materiale per generare le micro-macro strutture di interesse.

Personale coinvolto

S. Coppola | V. Vespini | V. Pagliarulo | S. Grilli | P. Ferraro

Attrezzature/strumentazioni

  • LAB. Supporto alla litografia interferometrica,
  • Litografia olografica e fotorefrattiva,
  • LAB. Micro-printing e nano-fluidica,
  • Lab. Caratterizzazione Campioni,
  • Spin coater Laurell WS-650Sz,
  • Microscope,
  • pyro-EHD setup,
  • HL setup,
  • Laser.