Descrizione dell’attività di ricerca
La litografia Olografica è utilizzata per il patterning sub-micron periodico per la fabbricazione di strutture a domini invertiti in LiNbO3.
Oltre alle tecniche note di litografia interferometrica è stato sviluppato un nuovo metodo basato sull’impiego dell’effetto piroelettrico per generare instabilità in liquidi e film sottili. Tale tecnica consente di controllare, senza l’utilizzo di maschere e sorgenti laser, l’insorgere dell’instabilità in film sottili, attivando tramite un processo di self-assembling la formazione di array di strutture. Il range coperto dalla tecnologia basata sull’effetto pyro consente la fabbricazione di micro/macro strutture 3D anche di forma complessa. La manipolazione della materia soffice è in questo modo controllata attraverso l’azione elettroidrodinamica ed, una volta selezionata la geometria di interesse, le strutture sono curate e rese stabili utilizzando una sorgente esterna che può variare in funzione del tipo di materiale utilizzato. La tecnologia è stata validata ed applicata a materiali polimerici da bassa ad alta viscosità, con il vantaggio di progettare a priori le instabilità fluidodinamiche da indurre al materiale per generare le micro-macro strutture di interesse.
Personale coinvolto
S. Coppola | V. Vespini | V. Pagliarulo | S. Grilli | P. Ferraro
Attrezzature/strumentazioni
- LAB. Supporto alla litografia interferometrica,
- Litografia olografica e fotorefrattiva,
- LAB. Micro-printing e nano-fluidica,
- Lab. Caratterizzazione Campioni,
- Spin coater Laurell WS-650Sz,
- Microscope,
- pyro-EHD setup,
- HL setup,
- Laser.